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光刻胶中的液体颗粒管控方案的

发表时间:2023-09-05 14:39作者:普洛帝测控技术有限公司来源:普洛帝网址:http://www.pld17.com

光刻胶中的颗粒主要来源于以下几个方面:

PMT-2颗粒计数系统.jpg

1. 光刻胶本身:由于光刻胶在生产过程中可能会混入一些杂质,或者在储存过程中发生改变,导致光刻胶内颗粒数量的增加。

2. 环境:光刻胶在使用过程中,可能会被环境中的颗粒所污染,如空气中的颗粒、操作人员的手套、器皿等。

3. 其他因素:如光刻胶的混合、储存和运输等过程中,都可能因为操作不当,导致颗粒数量的增加。

二、颗粒管控方案

为了减少光刻胶中的颗粒数量,我们可以采取以下措施:

1. 选择质量优良的光刻胶,并在使用前进行严格的的质量检测,确保光刻胶的颗粒数量在允许范围内。

2. 确保操作环境清洁,定期进行环境清洁和检测,使用无尘手套等工具,减少环境中的颗粒对光刻胶的污染。

3. 采取正确的操作流程,如使用前对光刻胶进行充分搅拌、储存和运输,确保光刻胶的质量稳定。

4. 使用滤网、滤芯等过滤设备,对光刻胶进行过滤,进一步减少光刻胶中的颗粒数量。

光刻胶中的液体颗粒管控方案,对于提高芯片的质量和性能有着重要的作用。通过选择优质的光刻胶、保持操作环境的清洁、采取正确的操作流程,以及使用过滤设备等措施,可以有效减少光刻胶中的颗粒数量,提高产品的质量和性能。希望这个短视频能帮助大家更好地了解光刻胶中的液体颗粒管控方案。


文章分类: 新闻动态
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